Levitor RTP System
200mm/300mmウェーハRTPアニール装置 Levitor4000/LEVO6000

  • 150umガスベアリングによる伝導熱アニールで、ランプ型放射熱アニールの問題を解決。

特長
・900℃/秒の急速加熱、-300℃/秒の急速冷却。
・面内均一な加熱冷却で、ウェーハの反りを抑制し、フォトリソの歩留まりを改善。
・200℃の低温からから1100℃まで、Wafer-to-Waferの温度安定性。
・高スループットアニール：スパイク＝0.1秒115 wph　／　ソーク＝20秒86ｗｐｈ ph
・様々な適用プロセス・ガスで、抜群の安定性
・Levitor4000：安定ガス、LEVO6000：活性ガス（水素、アンモニア等）
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製品メーカー
Levitech BV
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