Microtechは幅広い用途に対応した柔軟性の高い構成を可能にする装置をお届けします。
LW405Dマスク描画装置は複数の露光波長を選択構成可能で、基板のサイズや材質、描画方式等も柔軟に構成可能です。

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特長

・3波長（最大）選択、切替可能な光源（405nmを含む）
・6つの描画モード（最大）を構成可能
・描画レゾリューション: 0.7μm~8μm, 対物レンズ倍率に依存
・描画速度: 30~120 mm²/min @4μm 解像度時

製品メーカー

Microtech社