半導体用フォトマスクの白黒欠陥を高精度で修正する装置です。

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特長

・高精度で多彩な白黒欠陥修正が可能。
・独自開発の光学系を使用。アパーチャビームによる高速大面積の欠陥修正とスポットビームによる微小欠陥の高精度修正を実現。
・高安定・長寿命なFemto秒レーザとLD励起固体レーザ、高精度エアスライッダーステージを使用。高品位な修正エッジ品質にて修正精度: 25 nmを達成。
・スルーペリクル対応（ZAPのみ）
・フレキシブルなパタンコピー機能搭載
・高精度カラー表示による画像モニター
・各種欠陥検査機通信インターフェイス、データフォーマットに対応

※弊社営業部門までお問い合わせをお願いいたします。

対応マスクパターン

300 nm Line & Space

対応マスクサイズ

５インチ～９インチ

製品メーカー

V-TECHNOLOGY社