ブイ・テクノロジー社のレーザーマスク描画装置です。
LCD TFT、OLED 等の大型マスクをマルチヘッドのパラレル露光により、高速・高精度描画を可能にしました。

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特長

・最大 1400 x 1600mm サイズのマスクを描画可能
・マルチヘッド及び高度な描画方式による高速描画
・従来比 約２倍の描画速度
・高精度描画でムラ問題を解消

描画速度

13 mm/s (2412 mm2/min., Target)

最小線幅 (L/S)

750 nm

アドレスグリッド

1 nm (CAD 設計グリッド)

CD 均一性

60 nm

CD 直線性

50 nm

レジストレーション

90 nm (Target）

製品メーカー

V-TECHNOLOGY社