V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSI 2層目専用のマスク描画装置です。
高精度・高信頼性の本装置は、効率良く低コストでマスクの生産を可能にします。
描画速度は300mm2/分以上で、大手マスクショップを中心に10台近くが既に稼働中です。

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描画性能

・最小寸法：1000nm
・最小アドレスグリッド：25nm
・ラインエッジラフネス：< 50nm, 3σ
・位置精度：< 100nm
・CD 均一性：< 70nm, 3σ
・2層目アライメント精度：< 100nm, 3σ
・描画速度：> 300²/min

システム構成

・マスクサイズ：6inch
・最大描画エリア：150mm
・光源：405nm LED
・ステージ：3 axis
・チャンバー：50 mk control
・光学系：NA0.35, FOV1.2mm dia.
・SLMサイズ：XGA DMD
・オートフォーカス：Coaxial optical real time
・描画モード：Step & Repeat, scan, render (SR+scan)
・ホスト通信：SECS/GEM(option)
・DMD 欠陥検出：〇
・欠陥修正モード：Optional

寸法

W2,360mm x D2,700mm x H2,100mm（main unit）
W1,400mm x D750mm x H2,380mm（ECU unit）

重量

2,900kg（main unit）
500kg（ECU unit）

製品メーカー

V-TECHNOLOGY社