V-Technology グループのナノシステムソリューションが提供するLSIマスク汎用描画装置です。
多くの描画装置製造の実績をベースに、LSIマスクを高精度で効率良く描画可能な装置として開発中です。近日中にリリース予定です。
描画速度は200mm2/min. 以上、CDUは10nm以下、位置精度は20nm以下を目標に設計しています。

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描画性能

・最小寸法：500nm
・最小アドレスグリッド：1nm
・ラインエッジラフネス：< 10nm, 3σ
・位置精度：< 20nm
・CD 均一性：< 10nm, 3σ
・2層目アライメント精度：< 20nm, 3σ
・描画速度：> 200²/min

システム構成

・マスクサイズ：6inch or 9inch
・最大描画エリア：230mm
・光源：3　75nm Laser
・ステージ：6　axis correct
・チャンバー：30 mK control
・光学系：NA0.9, FOV1.0mm dia.
・SLMサイズ：W QXGA DMD
・オートフォーカス：coaxial optics
・描画モード：Step & Repeat, scan, render (SR+scan)
・ホスト通信：SECS/GEM(option)
・DMD 欠陥検出：〇
・露光量モニタ装備

寸法

W1,800mm x D3,400mm x H2,100mm

重量

3,500kg

製品メーカー

V-TECHNOLOGY社