半導体用フォトマスク上にあるパターンの欠陥、異物検査を高速、高精度で行う欠陥検査装置

• 

特長

・高速、高分解能でDie to Database、Die to Die検査が可能
・専用のDatabaseエンジン（RIG System）を搭載し、高密度データに対応
・光源にランプを使用し、低ランニングコストを実現
・透過検査と反射検査の同時検査が可能（Die to Database、Die to Die）
・マスクホルダーの変更により、5インチから9インチまで検査可能
・検査中に検出欠陥の確認が可能：オフラインレビュー機能（検査中に透過光イメージ、反射光イメージをキャプチャー）
・SMIF Pod対応可

製品メーカー

V-TECHNOLOGY社